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高石半导体

Technology

技术平台

从中低压屏蔽栅与沟槽,到高压超结与 IGBT,再到 CSP 与智能功率级——以完整的器件平台矩阵,支撑消费、计算与能源领域的功率系统设计。

Split-Gate Trench

SGT 屏蔽栅 MOSFET

在沟槽结构中引入屏蔽电极,优化栅电荷与导通电阻的平衡,支撑中低压、高效率功率转换与大电流开关。

  • 中低压大电流
  • 低 Qg · 高效开关
  • DC-DC / 电机驱动
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GSDGate polyShield polyIPO(栅/屏蔽间)Gate oxideILDContactn⁺ sourcep-bodyn⁻ drift
SGT 屏蔽栅 MOSFET·结构示意 · 非比例

沟槽栅平台

Trench MOSFET

成熟的沟槽栅工艺族,电压与极性覆盖完整,封装选择丰富,构成电源转换、负载开关与通用功率级的主力器件平台。

  • 宽电压覆盖
  • N / P 沟道
  • 电源与负载开关
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GSDMetalContactILDGate oxideGate polyn⁺ sourcep-bodyn⁻ driftn⁺ substrate
Trench MOSFET·结构示意 · 非比例

高压超结

Super Junction MOSFET

以电荷平衡超结结构服务高压开关,在有限芯片面积下实现更优的导通电阻,面向 PFC、谐振与能源变换主功率路径。

  • 650–700 V
  • 低导通损耗
  • PFC / 能源变换
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GSDMetalContactILDGate oxideGate polyn⁺ sourcep-bodyn-pillarp-pillarn⁺ substrate
Super Junction MOSFET·结构示意 · 非比例

场截止沟槽栅

FS-Trench IGBT

场截止沟槽 IGBT 平台,兼顾通态压降与开关性能,服务变频驱动、UPS 与充电等中高压、高电流应用。

  • 650 V
  • 高电流能力
  • 变频 / UPS / 充电
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EGCMetalContactILDGate oxideGate polyn⁺ emitterp-bodyn⁻ driftn⁺ FSp⁺ collector
FS-Trench IGBT·结构示意 · 非比例

晶圆级封装

CSP MOSFET

CSP / WLCSP 双 N 共漏结构,以接近芯片的占板面积服务便携设备电池保护与充放电路径,满足空间极度受限的设计需求。

  • 双 N · 共漏
  • CSP / WLCSP
  • 电池保护路径
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CSP / WLCSP 封装FET1FET2N-chN-ch共漏S1G1G2S2等效电路S1FET1NG1FET2NG2S2双 N · 共漏电池保护路径Die / FET封装焊球 / 焊盘器件本体
CSP MOSFET·结构示意 · 非比例

智能功率级

DrMOS & PMIC

驱动与高低边功率 MOSFET 单封装集成,提升功率密度并简化多相布局,面向主板、服务器等大电流核心供电与系统电源管理。

  • DrMOS 功率级
  • 高功率密度
  • 主板 / 服务器供电
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单封装功率级PWMDriver高低边驱动GHGLHS上管LS下管VINSWPGNDDriverHS 上管LS 下管封装VIN / PGNDSW 节点
DrMOS·结构示意 · 非比例